banier

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative

Korte beschrijving:


Productdetails

Productlabels

Gerelateerde video

Terugkoppeling (2)

Ongeacht of het om een ​​nieuwe klant of een bestaande klant gaat, wij geloven in een langdurige en betrouwbare relatiePapierdruk,Geleidende afschermingstape,PapierdrukVoor meer informatie kunt u ons gerust bellen. Al uw vragen worden zeer op prijs gesteld.
Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative Detail:

Producttoepassing

Toepasbaar op printplaten en flexibele printplaten, met als voordeel uitstekende prestaties op het gebied van spanning, resolutie en hechting.

Productstructuur

Droge film

Productspecificatie

Productcode

LK-D1238 LDIDroge film

LK-G1038 Droge film

Dikte (μm)

38,0±2,0

Lengte (m)

200m

Breedte

Volgens verzoek van de klant

Productparameters

(1) LK-D1238 LDI Droge Film

LK-D1238 LDI-droge film is geschikt voor directe belichtingsapparatuur, met golflengtes van 355 nm en 405 nm.

Item en testmethode

Testgegevens

Kortste beeldvormingstijd

(1,0 gew.% Na2CO3-wateroplossing, 30℃) *2

25s

Golflengte (nm)

355

405

Prestaties na beeldvorming

Lichtgevoeligheid

(*2×2.0)

ST=7/21

Blootstellingsenergie*3

20 mJ/cm2

15 mJ/cm2

Resolutie (*2×2.0)

ST=6/21

40 μm

40 μm

ST=7/21

40 μm

40 μm

ST=8/21

50 μm

50 μm

Hechting (*2×2,0)

ST=6/21

50 μm

50 μm

ST=7/21

40 μm

40 μm

ST=8/21

35 μm

35 μm

【Betrouwbaarheid van onderhoud】*3

10 gaten (6 mmφ)

Snelheid van het breken van het gat

(*2×2,0×3 keer)

ST=6/21

0%

0%

ST=7/21

0%

0%

ST=8/21

0%

0%

Eindtijd voor strippen

(3,0 gew.% NaOH-wateroplossing, 50℃)

ST=7/21*1

Blootstellingsenergie

jaren 50

jaren 50

 

(2) LK-G1038 Droge film

LK-G1038 Droge film is geschikt voor contactbelichtingsmachines, met een hoofdgolflengte van 365 nm.

Item en testmethode

Testgegevens

Kortste beeldvormingstijd

(1,0 gew.% Na2CO3-wateroplossing, 30℃) *2

22s

Prestaties na beeldvorming

Lichtgevoeligheid

(*2×2.0)

ST=8/21

Blootstellingsenergie*3

90 mJ/cm2

Oplossing

(*2×2.0)

ST=6/21

32,5 μm

ST=7/21*1

32,5 μm

ST=8/21

35 μm

Hechting

(*2×2.0)

ST=6/21

45 μm

ST=7/21

40 μm

ST=8/21

35 μm

(Tending Betrouwbaarheid)*3

10 gaten (6 mmφ)

Snelheid van het breken van het gat

(*2×2,0×3 keer)

ST=6/21

0%

ST=7/21

0%

ST=8/21

0%

Eindtijd voor strippen

(3,0 gew.% NaOH-wateroplossing, 50℃)

ST=7/21*1

Blootstellingsenergie

jaren 50

(Bovenstaande gegevens zijn alleen ter referentie)
Opmerking:

*1: Stouffer 21-traps blootstellingsenergieschaal.
*2×2.0: Afbeelding met twee keer de tijd van de kortste afbeeldingstijd.
*3: Als de nadruk ligt op de betrouwbaarheid van de belichting, wordt aanbevolen om een ​​belichtingsenergiewaarde van fase 7~8 te gebruiken.
*4: Bovenstaande gegevens zijn getest met onze eigen apparatuur en instrumenten.

Aanvraagprocedure

product

Voorzichtigheid bij toepassing

(1) Toepassing: Gebruik deze film uitsluitend als resist voor printplaat-gerelateerd materiaal en andere patroonvormingen.
(2) Voorbehandeling: Organische resten en vlekken als gevolg van onvoldoende ontwatering en droging op het koperoppervlak kunnen polymerisatie van de beschermlaag en penetratie van de plating- of etsoplossing veroorzaken. Droog het volledig na het spoelen met water. Vooral wanneer er vocht in het doorlopende gat achterblijft, kan dit leiden tot breuk van de tent.
(3) Voorverwarmen van het substraat: Langdurig voorverwarmen bij een te hoge temperatuur kan roest veroorzaken. Dit moet korter dan 10 minuten bij 80 °C en korter dan 3 minuten bij 150 °C gebeuren. Wanneer de oppervlaktetemperatuur van het substraat vóór het lamineren hoger is dan 70 °C, kan de filmdikte op de rand van een doorlopend gat te dun worden en kan dit leiden tot breuk van de tent.
(4) Vasthouden na lamineren en belichting: Houd vast met het lichtscherm of onder een gele lamp (2 meter of meer afstand vereist). De maximale vasthoudtijd in het laatste geval (onder een gele lamp) is 4 dagen. De belichting moet binnen 4 dagen na lamineren plaatsvinden. De ontwikkeling moet binnen 3 dagen na belichting plaatsvinden. De lichtstraal van een niet-ultraviolet witte lamp bevat enkele ultraviolette stralen, dus houd vast met het lichtscherm met een zwarte plaat eronder. Houd de temperatuur op 23 ± 2 °C en de relatieve vochtigheid op 60 ± 10% RV. Gelamineerde substraten moeten één voor één in een rek worden geplaatst.
(5) Ontwikkeling: Als de temperatuur van de ontwikkelaar boven de 35℃ ligt, kan het resistprofiel slechter worden.
(6) Strippen: Strippen binnen een week na het lamineren.
(7) Afvalverwerking: Droge filmcomponenten in ontwikkelaar en stripper kunnen worden gecoaguleerd door neutralisatie. De gecoaguleerde componenten kunnen van de waterige oplossing worden gescheiden door middel van een filterpersmethode en centrifugaalmethode. De gescheiden waterige oplossing heeft bepaalde COD- en BOD-waarden, dus deze moet op de juiste manier worden verwerkt.
(8) Filmkleur: De kleur is groen/blauw. Hoewel de kleur na verloop van tijd geleidelijk kan verkleuren, mag dit de eigenschappen niet beïnvloeden.

Let op bij opslag

(1) Wanneer de opslag plaatsvindt op een donkere, koele en droge plaats bij een temperatuur van 5~20℃ en een relatieve vochtigheid van 60%RH of lager, moet de droge film binnen 50 dagen na productie worden gebruikt.
(2) Houd de folierollen horizontaal met behulp van rekken of steunborden. Wanneer ze verticaal worden gelegd, kunnen de vellen droge folie één voor één verschuiven en kan de rolvorm lijken op een bamboescheut (rollen worden horizontaal in een verpakking gelegd).
(3) Haal de filmrollen uit de zwarte folie onder een gele lamp of een soortgelijke veiligheidslamp. Laat ze niet te lang onder de gele lamp liggen. Bedek de filmrollen met een zwarte folie wanneer u ze langere tijd opbergt.


Productdetailfoto's:

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative detailfoto's

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative detailfoto's

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative detailfoto's

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative detailfoto's

Goedkope prijs voor droogfilm fotoresistproces in China - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative detailfoto's


Gerelateerde productgids:

Sinds de oprichting beschouwen wij onze onderneming vaak als uitstekende oplossingen, zoals in het bedrijfsleven, en versterken wij continu de outputtechnologie, de productkwaliteit en de algehele kwaliteit van de organisatie, in strikte overeenstemming met de nationale norm ISO 9001:2000 voor China. Goedkoop droogfilm fotoresistproces - Droge film toegepast op FPC en PCB - Lucky Innovative. Het product wordt wereldwijd geleverd, zoals in Berlijn, Las Vegas en Montreal. Met de beste technologische ondersteuning hebben we onze website afgestemd op de beste gebruikerservaring en rekening gehouden met uw winkelgemak. Wij zorgen ervoor dat het beste bij u thuis wordt afgeleverd, in de kortst mogelijke tijd en met behulp van onze efficiënte logistieke partners, namelijk DHL en UPS. Wij beloven kwaliteit en leven volgens het motto om alleen te beloven wat we kunnen waarmaken.
  • Wij zijn al vele jaren actief in deze sector en waarderen de werkhouding en de productiecapaciteit van het bedrijf. Het is een gerenommeerde en professionele fabrikant.
    5 sterrenDoor Madge uit het VK - 2017.12.02 14:11
    De producten van het bedrijf zijn uitstekend, we hebben al meerdere malen iets gekocht en met hen samengewerkt. De prijzen zijn redelijk en de kwaliteit is gegarandeerd. Kortom, dit is een betrouwbaar bedrijf!
    5 sterrenDoor Arabela uit San Diego - 2018.04.25 16:46
    Schrijf hier uw bericht en stuur het naar ons